Lithographie Machine Mask Aligner Foto-Ätzen Machine
Produit Aféierung
D'Beliichtungslichtquell adoptéiert importéiert UV LED a Liichtquelleformungsmodul, mat klenger Hëtzt a gudder Liichtquellstabilitéit.
Déi ëmgedréint Beleuchtungsstruktur huet e gudden Wärmevergëftungseffekt a Liichtquell enk Effekt, an de Quecksilberlampe Ersatz an Ënnerhalt sinn einfach a praktesch.Equipéiert mat héijer Vergréisserung Binokular Dual Field Mikroskop an 21 Zoll breet Écran LCD, kann et visuell ausgeriicht ginn duerch
Okular oder CCD + Display, mat héijer Ausrichtung Genauegkeet, intuitive Prozess a praktesch Operatioun.
Eegeschaften
Mat Fragmentveraarbechtungsfunktioun
Nivellering Kontaktdrock garantéiert Widderhuelbarkeet duerch Sensor
D'Ausrichtungslück an d'Beliichtungsspalt kënnen digital gesat ginn
Benotzt embedded Computer + Touchscreen Operatioun, einfach a praktesch, schéin a generéis
Pull Typ erop an erof Plack, einfach a praktesch
Ënnerstëtzt Vakuum Kontakt Belaaschtung, schwéier Kontakt Belaaschtung, Drock Kontakt Belaaschtung a Proximitéit Belaaschtung
Mat Nano Ofdréck Interface Funktioun
Eenschichtbelaaschtung mat engem Schlëssel, héijen Automatisatiounsgrad
Dës Maschinn huet gutt Zouverlässegkeet a praktesch Demonstratioun, besonnesch gëeegent fir Léierpersonal, wëssenschaftlech Fuerschung a Fabriken a Colleges an Universitéiten
Méi Detailer
Spezifizéierung
1. Beliichtungsfläch: 110 mm × 110 mm;
2. ★ Beliichtung Wellelängt: 365nm;
3. Resolutioun: ≤ 1m;
4. Ausriichtung Genauegkeet: 0,8m;
5.D'Bewegungsberäich vum Scannen Dësch vum Ausriichtungssystem soll op d'mannst treffen: Y: 10mm;
6. Déi lénks a riets Liichttuer vum Ausriichtungssystem kënnen separat an X-, y- an Z-Richtungen, X-Richtung: ± 5mm, Y-Richtung: ± 5mm an Z-Richtung: ± 5mm bewegen;
7. Mask Gréisst: 2,5 Zentimeter, 3 Zentimeter, 4 Zentimeter, 5 Zentimeter;
8. Prouf Gréisst: Fragmenter, 2 ", 3", 4 ";
9. ★ Gëeegent fir Prouf deck: 0,5-6mm, a kann 20mm Prouf Stécker am meeschte ënnerstëtzen (personaliséiert);
10. Beliichtungsmodus: Timing (Countdown-Modus);
11. Net Uniformitéit vun Beliichtung: ＜ 2,5%;
12. Dual Feld CCD Ausriichtung Mikroskop: Zoomobjektiv (1-5 Mol) + Mikroskop Objektiv;
13. De Bewegungsschlag vun der Mask relativ zu der Probe soll op d'mannst treffen: X: 5mm;Y: 5 mm;:6º;
14. ★ Beliichtung Energie Dicht: > 30MW / cm2,
15. ★ D'Ausrichtungspositioun an d'Beliichtungspositioun funktionnéieren an zwou Statiounen, an déi zwee Statioun Servomotor schalt automatesch;
16. Leveling Kontaktdruck garantéiert Widderhuelbarkeet duerch Sensor;
17. ★ D'Ausriichtungslück an d'Beliichtungsspalt kënnen digital gesat ginn;
18. ★ Et huet Nano Ofdréck Interface an Proximitéit Interface;
19. ★ Touchscreen Operatioun;
20. Allgemeng Dimensioun: Iwwer 1400mm (Längt) 900mm (Breet) 1500mm (Héicht).
