Lithographie Maschinn Mask Aligner Foto-etching Maschinn
Produkt Aféierung
D'Belaaschtung Liichtquelle adopts importéiert UV gefouert a liicht Quell-Modul, mat klenger Hëtzt a gutt Liichtquell Stabilitéit.
D'Arrivée hunn d'Zesummesetzung gutt oder méi einfach Effekt a méikréien, an och Quequêts ersetzen, an d'Quoundier Luucht ersat ginn, an déi Quequatioune kritt, an och Quequêts ersat an den Quecksëlwer Lafen ersat an Ënnerhalt Mat héijer Vergréisserung binokulär duebel Feld Mikroskope an 21 Zoll-Fuerderung LCD, et ka visuell duerchliewt ginn
Okular oder CCD + Display, mat héijer Ausschlag Richtegkeet, intuitiv Prozess an praktesch Operatioun.
FONTassementer
Mat Fragment Veraarbechtungsfunktioun
Leveling Kontaktdrock garantéiert d'Widderhuelung duerch Sensor
Den AusrichtungspAP an ExpositiounspAP kann digital gesat ginn
Benotzt Embedded Computer + Touch Écran Operatioun, einfach a praktesch, schéin a generéis
Pull Typ op an erof Teller, einfach a praktesch
Ënnerstëtzt Evaubum Kontakt Beliichtung, Hard Kontakt Expositioun, Drock-Kontakt Exposition a Proximitéit Beliichtung
Mat Nano Impressum Interface Funktioun
Eenzeg Schicht Belaaschtung mat engem Schlëssel, héije Grad vun der Automatioun
Dës Maschinn huet eng gutt Zulissibilitéit an eng Pronatleitweitegkeet, besonnesch passend, d'Gespréicher an d'Universitéiten ze léieren
Méi Detailer
Spezifizéierung
1. Expositiounsberäich: 110mm × 110mm;
2. ★ Beliichtung Wellelängt: 365nm;
3. Opléisung: ≤ 1m;
4. Obligatoresch Genauegkeet: 0,8m;
5. D'Bewegungsbereich vum Scannen Dësch vum Ausrichtungssystem soll op d'mannst treffen: y: 10mm;
6. Déi lénks a riets Liicht Réier vum Alignment System kann getrennt an x an z réckelen, x Richtung 1 - 5mm, ± 5mm: ± 5mm: ± 5mm:
7,50 Auer: 2.5 Zell, 3 Zolle, 4 Zeilen, 5 Zoll;
8. Probe Gréisst un Toragment, 2 ", 3", 4 ";
9. ★ gëeegent fir Probe Dicke: 0,5-6mm, a kann 20m-Probe Stécker opstänneg ënnerstëtzen (personaliséiert);
10. Expositiounsmodus: Timing (Countdown Modus);
11. Net Uniformitéit vun der Luucht: <2,5%;
12. Dual Feld CCD ALDE MIOSCOPE: Zoom Lens (1-5 Mol) + Mikroskop Objektiv;
13. D'Bewegung vun der Mask relativ zu der Probe soll op d'mannst treffen: x: 5mm; Y: 5mm; : 6º;
14. ★ Belaaschtung Energie Dicht:> 30mw / cm2,
15 Paus. ★ d'Ausliichtungspaltung an Belaaschtlech Positioun an zwou Statiounen an déi zwee Statiounen servéieren op Dauer zesummen.
16. Niveaue Kontaktdrock ass entstinn widderhuelen duerch Sensor;
17. ★ D'AusrichtungspAP an d'BelaaschtungspAP kann digital festgeluecht ginn;
18. ★ Et huet Nano Impressum Interface an Proximitéit Interface;
19. ★ Touch Écran Operatioun;
20. Gesamt Dimensioun: ongeféier 1400mm (Längt) 900mm (Breet) 1500mm (Héicht).
